行业趋势向好
从行业发展来看，AI发展正推动先进工艺产能（7nm及以下）持续扩张，ArFi和EUV光刻机需求加剧。全球半导体制造行业预计从2024年底到2028年，产能以7%的复合年增长率增长，达到每月1110万片晶圆。其中，先进工艺产能预计从2024年的每月85万片增长至2028年的140万片，复合年增长率约14%。AI推理和AI集成到个人助理、VR/AR设备及人形机器人等领域，进一步推动对先进半导体技术的需求。
从技术进步来看，华金证券表示，光刻机技术仍是先进制程大规模量产的基石，其分辨率受光源波长、数值孔径和工艺系数等因素影响。计算光刻技术通过软件优化光刻过程，提高分辨率和效率。此外，14nm以下芯片制造需依赖DUV（ArFi）及EUV光刻机，而多重曝光技术虽可延缓DUV光刻机的商业周期，但工艺复杂度和成本显著上升，难以满足更先进节点需求。
爱建证券此前发布研报表示，国产光刻机产业链在政策支持与国家大基金的持续投入下，已取得进展。2024年全球光刻设备市场规模达295.7亿美元，预计到2029年将增长至378.1亿美元，年复合增长率5.0%。EUV光刻机作为先进制程的核心设备，目前仍由ASML垄断。
山西证券表示，2026年底，中国12英寸晶圆厂的总月产能有望从2023年的217万片（规划产能）增长到超过414万片。人工智能发展大幅提升国内先进制程产能需求。芯片生产线建设中，光刻机购置成本最高，达到设备总投资的21%—23%。国内晶圆厂建设潮和AI快速发展带动国产光刻机需求持续攀升。美国持续加大对华半导体设备出口管制，国产光刻机产业有望加速崛起。
